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晶體材料

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產(chǎn)品概述

簡介：硅（Si）主要制作半導體器件、紅外光學器件以及太陽能電池襯底等材料。

性能及參數(shù)
晶體結構	面心立方
顏色及外觀	黑色
密度	2.4g/cm³
熔點	1420℃
摻雜物質	不摻雜	摻B	摻P
類型	N或P	P	N
電阻率	＞1000Ωcm	10^-3～40Ωcm	102～104Ω㎝
EPD	≤100/cm²	≤100/cm²	≤100/cm²
氧含量	≤1～1.8×10¹⁸/cm³	≤1～1.8×10¹⁸/cm³	≤1～1.8×10¹⁸/cm³
碳含量	≤5×10¹⁶/cm³	≤5×10¹⁶/cm³	≤5×10¹⁶/cm³
晶向	<100>、<110>、<111>
晶面定向精度	±0.5°
邊緣定向精度	±1°
斜切晶片	可按照客戶需求，定制特殊方向
尺寸（可按照客戶需求，定制特殊尺寸）	10×10×0.5mm、10×5×0.5mm、5×5×0.5mm、15×15×0.5mm等
	dia1″×0.5mm、dia2″×0.5mm等
拋光	單面拋光、雙面拋光等
表面粗糙度	＜5 Å
包裝	1000級超級凈室100級超凈袋或單片晶盒封裝

合肥康帕因設備技術有限公司是應材料界老客戶呼吁而成立的專業(yè)致力于材料制備、真空鍍膜、真空檢測、等離子清洗、鍍膜等設備的研發(fā)、生產(chǎn)型企業(yè)。公司擁有過硬的技術團隊，可在材料研究、真空檢漏、真空鍍膜、等離子清洗等領域為您排憂解難。
CPI 技術力量來源于材料類工業(yè)生產(chǎn)設備要求，以及與國外同行業(yè)間的技術合作，產(chǎn)品設計*，注重細節(jié)，質量可靠，售后無憂。CPI設備廣泛應用于新能源材料，金屬材料，磁性材料，半導體材料，陶瓷材料，電化學，薄膜材料，CVD,PECVD ,石墨烯，碳納米管，碳納米線，光學材料，齒科等研究領域。
CPI將工業(yè)生產(chǎn)設備技術要求應用于實驗設備，設備性能更加穩(wěn)定可靠，工藝重復性強。

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